真空镀膜工艺衬底（基片）外表的清洁处置很重要，基片进入镀膜室前均应停止认真的镀前清洁处置，到达工件去油、去污和脱水的目的。
基片外表污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、抛光膏、油脂、汗渍等物；零件外表在湿润空气中生成的氧化膜；零件外表吸收和吸附的气体。这些污物根本上均可采用去油或化学清洗办法将其去掉。
