提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%)，接近电弧的离化率。真空镀膜设备通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量，从而改善膜层的结合力和致密性。

提高轰击清洗的质量，特别是可以实现对非导体的镀前清洗，镀膜时辅助沉积，提高沉积粒子的能量，改善膜层的结合力。真空镀膜设备薄膜纳米沉积技术，沉积是涂层结构未来的发展方向，通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜，实现涂层性能的极大增强。

真空镀膜设备薄膜单一的颜色PVD涂层已满足不了市场的需求，进而提出双色间镀的要求，这是装饰涂层的发展方向，双色间镀的质量成为代表PVD加工企业的生产技术水平标志。减少工件的打火，增加沉积离子能量，增强膜基结合力，提高沉积速率。 真空镀膜设备薄膜通过低温冷凝效应，迅速捕集真空系统内的残余气体，特别是水蒸汽，大大缩短抽真空的时间，获得洁净的真空环境。薄膜绿色环保，大大降低能耗，真空系统抽速稳定，镀膜工艺稳定可靠，重现性好。