多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，多弧离子镀膜并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。多弧离子镀膜适用范围较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水多弧离子镀膜昂贵。

       1.多弧离子镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),多弧离子镀膜能够严格复制出啤件表面的形状。

       2.多弧离子镀膜工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵。

  　  3.多弧离子镀膜蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低。

       4.多弧离子镀膜只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰。

       5.多弧离子镀膜对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。

       6.多弧离子镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等。

       多弧离子镀膜的方法：在真空条件下成膜有很多优点，多弧离子镀膜可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，多弧离子镀膜减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，多弧离子镀膜从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。

       通常多弧离子镀膜要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，多弧离子镀膜对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。